宋法质，男，工学博士，教授，博士生导师。主要研究方向为面向高端制造/检测装备的运动生成与调控技术，提出了面向超精密装备全生命周期的运动生成、性能调控和精度保持方法，旨在解决专用高端装备的性能一致性、稳定性和保持性问题。目前在该领域已发表学术论文50余篇，含IEEE/CAA JAS、IEEE TIE、IEEE TNNLS、IEEE TMECH、IEEE TIM、IEEE TASE等TOP期刊论文19篇，ESI 1‰热点论文1篇、高被引论文2篇；出版学术专著1部，获评“黑龙江省优秀学术著作”、入选“十四五时期国家重点出版物出版专项规划项目”；申请国际发明专利4项（已授权2项）、中国发明专利29项（已授权25项）；开发运动轨迹规划、实时数据分析及监控等测控软件3类；主持国家重大专项攻关项目、国家自然科学基金面上/青年项目、企业委托项目等科研项目15项，累计科研经费约2500万元；担任动力学与控制学报客座主编、中国测试特邀主编、IEEE DDCLSC国际会议特邀分会主席、Instrumentation等期刊青年编委、中国仪器仪表学会嵌入式仪表与系统技术分会委员、中国工业合作协会科学家智库委员等学术职务；担任IEEE TIE、IEEE TMECH、IEEE TASE、ISA等国际著名期刊审稿专家、国家自然科学基金函评专家；在国际/国内学术会议做邀请报告4次；研究成果获得中国仪器仪表学会技术发明一等奖；中国仿真学会创新技术一等奖；获评黑龙江省优青、黑龙江省高层次人才等人才称号。

光刻机是我国集成电路产业链中技术壁垒最高的“卡脖子”备，在《瓦森纳协定》等多边技术封锁下，其国产化进程严重受阻，迄今尚未形成130nm、90nm等中低端机型的量产能力。运动控制技术作为决定光刻机特征尺寸、套刻精度和产率三大整机性能指标的关键使能技术，是打破技术封锁的关键突破口。近年来，申请人针对国产光刻机掩模台-工件台（RS-WS）系统在芯片曝光核心场景下面临的“扰动多、耦合深、匹配弱”三大挑战，从单自由度-多自由度-多运动体三个递进维度，开展了多源扰动精准抑制、多自由度精细解耦、多运动体精密协同等运动控制技术研究。